在使用超聲波細胞破碎儀之后應該如何清洗

　　超聲波細胞破碎儀就是將電能通過換能器轉換為聲能，這種能量通過液體介質而變成一個個密集的小氣泡，這些小氣泡迅速炸裂，產生的能量，從而起到破碎細胞等物質的作用。

　　超聲波細胞破碎儀具有破碎組織、細菌、病毒、孢子及其它細胞結構，勻質、乳化、混合、脫氣、崩解和分散、浸出和提取，加速反應等功能，故廣泛應用于生物、醫學、化學、制藥、食品、化妝品、環保等實驗室研究及企業生產。

　　超聲波破碎儀的主要清洗方式有以下幾種：

　　1、半水基清洗。近年來逐漸發展成熟的一種新工藝，它是在傳統溶劑清洗的基礎上進行改進而得來的。它能有效地避免溶劑的一些弱點，可以做到無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統；設備上的配套裝置更少；使用周期比溶劑要更長；在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑突出的一個優點就是對于研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果，極大地緩解了后續單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。

　　2、溶劑清洗。比較傳統的方法，其優點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環使用；但缺點也比較明顯，由于光學玻璃的生產環境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設備時。

　　3、鍍膜前清洗。鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油、手印、灰塵等。由于鍍膜工序對鏡片潔凈度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。

　　4、鍍膜后清洗。一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗，其中接合前清洗要求嚴格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物，清洗難度不大，但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求，其清洗方式與前面兩個清洗工藝相同。